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| 新型电子清洗工艺 | |
| 引用本文： | 马洪磊,曹宝成.新型电子清洗工艺[J].微电子技术,1997,25(1):60-61. |
| 作者姓名： | 马洪磊 曹宝成 |
| 作者单位： | 山东大学光电材料与器件研究所!济南250100 |
| 摘 要： | 报告一种新型电子清洗工艺。该工艺采用了被命名为DZ－l和DZ－2的两种新型电子清洗剂分别与95％体积的去离子水配制成清洗液，先后用超声波清洗。用高频C－V测试和原子吸收光谱分析研究了清洗效果。用该工艺清洗过的硅片生长二氧化硅层，其固定电荷密度10“cm－‘数量级（见图1 |
| 关 键 词： | 电子清洗工艺 工业废水 排放标准 电子工业 |
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