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| 光刻掩模缺陷对IC成品率的影响 | |
| 作者姓名： | 游树达 |
| 作者单位： | 中国华晶电子集团公司掩模工厂!无锡，214061 |
| 摘 要： | 本文叙述了光刻掩模的缺陷对IC成品率的影响，着重介绍了缺陷产生的原因及消除的方法，并对国内外光刻掩模生产现状作简要介绍。 |
| 关 键 词： | 掩模 缺陷 定义缺陷 保护膜 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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