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抛光介质对微波铁氧体基片表面粗糙度及隔离器插损的影响

作者单位：	中国电子科技集团公司第九研究所,四川绵阳621000;南京安法斯通讯技术有限公司,江苏南京211100

基金项目：	四川省科技计划资助项目

摘要：
关键词：	微波铁氧体抛光介质表面粗糙度隔离器插入损耗
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