| 低温ITO薄膜制备及其在TOLED中的应用 |
| |
| 引用本文： | 林慧,蒋亚东,于军胜,李军建,王军,邓建芳. 低温ITO薄膜制备及其在TOLED中的应用[J]. 光电子．激光, 2007, 18(9): 1068-1070 |
| |
| 作者姓名： | 林慧 蒋亚东 于军胜 李军建 王军 邓建芳 |
| |
| 作者单位： | 电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,四川,610054;电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,四川,610054;电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,四川,610054;电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,四川,610054;电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,四川,610054;电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,四川,610054 |
| |
| 基金项目： | 感谢电子科技大学中青年学术带头人项目 |
| |
| 摘 要： | 通过在直流磁控溅射过程中加入微量水蒸气的方法,在低于60℃温度条件下制备了具有优良光电性能的透明导电ITO薄膜,并探讨了溅射功率、基板温度对ITO薄膜光电性能的影响.利用制得的ITO薄膜作电极,制作了结构为ITO/CuPc/NPB/Alq3/BCP/Mg:Ag/ITO的透明有机电致发光器件(TOLEDs),结果表明,器件的平均透过率达到45%;在驱动电压15 V的条件下,发光亮度达到了3000 cd/m2.
|
| 关 键 词： | ITO薄膜 直流磁控溅射 透明有机电致发光器件(TOLEDs) 光电性能 |
| 文章编号： | 1005-0086（2007）09-1068-03 |
| 修稿时间： | 2006-07-28 |
Fabrication of Low-temperature ITO Thin Film and Its Application in TOLEDs |
| |
| LIN Hui,JIANG Ya-dong,YU Jun-sheng,LI Jun-jian,WANG Jun,DENG Jian-fang. Fabrication of Low-temperature ITO Thin Film and Its Application in TOLEDs[J]. Journal of Optoelectronics·laser, 2007, 18(9): 1068-1070 |
| |
| Authors: | LIN Hui JIANG Ya-dong YU Jun-sheng LI Jun-jian WANG Jun DENG Jian-fang |
| |
| Affiliation: | LIN Hui,JIANG Ya-dong,YU Jun-sheng,LI Jun-jian,WANG Jun,DENG Jian-fang(School of Optoelectronic Information,State Key Laboratory of Thin Solid Films , Integrated Devices,University of Electronic Science , Technology of China (Chengdu 610054,China) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | indium-tin oxide(ITO) thin films DC magnetron sputtering transparent organic light-emitting diods(TOLEDs) optical and electrical performance |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《光电子．激光》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《光电子．激光》下载全文 |
|
