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| 新型表面波等离子体源的诊断及不同工艺条件下的等离子体特性 | |
| 引用本文： | 徐均琪,上坂裕之,梅原德次,刁东风.新型表面波等离子体源的诊断及不同工艺条件下的等离子体特性[J].真空科学与技术学报,2006,26(3):214-218. |
| 作者姓名： | 徐均琪 上坂裕之 梅原德次 刁东风 |
| 作者单位： | 1. 西安工业大学光电工程学院,西安,710032;西北工业大学材料学院,西安,710072 2. 名古屋大学大学院工学研究科,名古屋,464-8603,日本 3. 西安交通大学,西安,710049 |
| 摘 要： | 表面波等离子体(Surface-wave-sustained plasma,SWP)是近年发展起来的一种新型低压、高密度等离子体。应用这种技术,很容易实现镀膜过程中的离子束辅助沉积(IBAD),从而制备出性能优异的类金刚石薄膜(DLC)。本文介绍了一种新型的SWP源,说明了朗缪尔探针等离子体诊断的基本原理,研究了微波功率、靶电压、真空度等对等离子体特性的影响。测试了不同工艺条件下的等离子体密度,电子温度,等离子体电位,悬浮电位。研究结果表明,微波功率、靶电压和真空度等参数对等离子体特性具有重要的影响。结果同时表明,这种表面波等离子体源即使在0.85 Pa的真空度下也能够产生高达1.87×1011cm-3的电子密度(在2.8 Pa可达2.1×1012cm-3)。 |
| 关 键 词： | 表面波等离子体 工艺参数 电子密度 类金刚石薄膜 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）03-0214-05 |
| 收稿时间： | 2005-06-17 |
| 修稿时间： | 2005年6月17日 |
Diagnosis and Properties of Newly Developed Surface-Wave-Sustained Plasma |
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| Xu Junqi,Kousaka Hiroyuki,Umehara Noritsugu,Diao Dongfeng.Diagnosis and Properties of Newly Developed Surface-Wave-Sustained Plasma[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(3):214-218. | |
| Authors: | Xu Junqi Kousaka Hiroyuki Umehara Noritsugu Diao Dongfeng |
| Abstract: | |
| Keywords: | Surface-wave-sustained plasma Experiment parameter Electron density DLC |
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