| DC磁控溅射沉积WO3电致变色薄膜 |
| |
| 引用本文： | 何延春,吴春华,邱家稳.DC磁控溅射沉积WO3电致变色薄膜[J].材料导报,2008,22(Z1):318-320. |
| |
| 作者姓名： | 何延春 吴春华 邱家稳 |
| |
| 作者单位： | 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000 |
| |
| 摘 要： | 采用直流磁控反应溅射工艺制备了WO3薄膜,在初始状态和注入Li离子后的平均透射率分别为83%和6%,变化接近77%,表明该WO3薄膜样品具有很好的电致变色性能.根据薄膜的透射率和反射率分别计算了WO3薄膜的光学带隙:非晶WO3薄膜的带隙为3.31eV,多晶WO3薄膜的带隙为3.22eV.
|
| 关 键 词： | DC磁控溅射 电致变色 薄膜 光学带隙 |
WO3 Electrochromic Thin Film Deposited by DC Magnetron Sputtering |
| |
| HE Yanchun,WU Chunhua,QIU Jiawen.WO3 Electrochromic Thin Film Deposited by DC Magnetron Sputtering[J].Materials Review,2008,22(Z1):318-320. |
| |
| Authors: | HE Yanchun WU Chunhua QIU Jiawen |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | WO3 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
