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Si/Si_(1-x)Ge_x HEMT异质结层的结构与二维电子气密度的关系
引用本文:胡英,周晓华,徐毓龙,赵祖军.Si/Si_(1-x)Ge_x HEMT异质结层的结构与二维电子气密度的关系[J].微纳电子技术,2001,38(2):46-49.
作者姓名:胡英  周晓华  徐毓龙  赵祖军
作者单位:西安电子科技大学技术物理学院,陕西,西安,710071
摘    要:从晶格匹配及能带阶跃角度讨论了设计一个 n沟 Si/Si1-x Gex HEMT异质结层的原理及方法 ,对 K.Ismail器件进行了分析和计算 ,所得 2 DEG的 ns与实验结果基本相符 ,并利用该设计理论对 K. Ismail器件的异质结结构进行了优化改进 ,提高了器件 2 DEG的 ns。

关 键 词:半导体异质结  晶格匹配  能带阶跃  结构设计  二维电子气密度
文章编号:1001-5507(2001)02-0046-04
修稿时间:2000年9月28日

Relation of heterojunction structure of Si/Si1-xGex HEMT and 2DEG density
HU Ying,ZHOU Xiao hua,XU Yu long,ZHAO Zu jun.Relation of heterojunction structure of Si/Si1-xGex HEMT and 2DEG density[J].Micronanoelectronic Technology,2001,38(2):46-49.
Authors:HU Ying  ZHOU Xiao hua  XU Yu long  ZHAO Zu jun
Abstract:The principle and method of designing n Si/Si 1- x Ge x HEMT heterojunction from the lattice match and the energy band discontinuity points has discussed in this paper,the HEMT repor ted by K.Ismail has analysed,and obtained 2DEG density n s essentially according with the experiment data,final the design of the heterojunction of K.Ismails HEMT is improved to get a higher 2DEG density n s.
Keywords:semiconductor heterojunction  lattice match  energy band discontinuity  structure design  2DEG density
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