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XG-501铬缸走位剂工艺在生产中的应用
引用本文:胡长根,应建军.XG-501铬缸走位剂工艺在生产中的应用[J].电镀与环保,2014(2):27-28.
作者姓名:胡长根  应建军
作者单位:宁波市电镀行业协会;宜兴市星光陶瓷研究所;
摘    要:由宜兴市星光陶瓷研究所研发的XG-501铬缸走位剂,是一种单一添加的走位剂。它具有主盐的质量浓度低、光亮范围宽、电流效率高、操作温度低但范围宽、沉积速率快、覆盖能力优良、杂质容忍度高等优点。原来没有添加过稀土添加剂或其他添加剂的镀铬液转缸方便,添加XG-501铬缸走位剂的镀液对工件有良好的活化作用,单一开缸及补充,使用极为方便,管理容易。

关 键 词:XG-铬缸走位剂  应用  转缸  效益
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