XG-501铬缸走位剂工艺在生产中的应用 |
| |
引用本文: | 胡长根,应建军.XG-501铬缸走位剂工艺在生产中的应用[J].电镀与环保,2014(2):27-28. |
| |
作者姓名: | 胡长根 应建军 |
| |
作者单位: | 宁波市电镀行业协会;宜兴市星光陶瓷研究所; |
| |
摘 要: | 由宜兴市星光陶瓷研究所研发的XG-501铬缸走位剂,是一种单一添加的走位剂。它具有主盐的质量浓度低、光亮范围宽、电流效率高、操作温度低但范围宽、沉积速率快、覆盖能力优良、杂质容忍度高等优点。原来没有添加过稀土添加剂或其他添加剂的镀铬液转缸方便,添加XG-501铬缸走位剂的镀液对工件有良好的活化作用,单一开缸及补充,使用极为方便,管理容易。
|
关 键 词: | XG-铬缸走位剂 应用 转缸 效益 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|