金刚线切割多晶硅片表面减反射绒面的制备 |
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作者姓名: | 刘友博 李利凯 汪雷 杨德仁 |
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作者单位: | 浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验室,浙江 杭州 310027 |
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基金项目: | 浙江省重点研发计划资助项目;国家重点研发计划;国家自然科学基金;国家自然科学基金;中央高校基本科研业务费专项 |
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摘 要: | 为解决金刚线切割多晶硅片表面制绒的问题,提出了一种创新的两步腐蚀制备硅表面陷光结构的方法。先以浓硫酸作为添加剂去除表面线痕,然后通过酸雾腐蚀法获得一种微米纳米复合的多孔陷光结构。样品在300~1100nm波长范围内的平均光反射率被降至8.6%,减反射效果优良,少子寿命提升0.6μs以上。此方法具有操作简单,无需复杂设备,成本低等优点,易实现工业化生产。
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关 键 词: | 金刚线切割多晶硅片 减反射 线痕 酸雾腐蚀 |
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