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g-C3N4量子点修饰球形Bi2WO6及其光催化活性增强机制
引用本文:郭莉,张开来,张鑫,赵芳丽,赵强,杨晓,王丹军,付峰.g-C3N4量子点修饰球形Bi2WO6及其光催化活性增强机制[J].材料工程,2019,47(11).
作者姓名:郭莉  张开来  张鑫  赵芳丽  赵强  杨晓  王丹军  付峰
作者单位:延安大学化学与化工学院,陕西延安716000;陕西省化学反应工程重点实验室,陕西延安716000;延安大学化学与化工学院,陕西延安,716000
基金项目:国家自然科学基金;国家自然科学基金;延安大学科技厅项目;延安大学科技厅项目;陕西省教育厅项目;国家级大学生创新创业训练计划项目;延安大学大学生创新创业训练计划项目;延安大学大学生创新创业训练计划项目;延安大学研究生创新项目
摘    要:采用水热法制备三维分级结构Bi_2WO_6,在此基础上采用浸渍-焙烧法将g-C_3N_4量子点成功沉积在Bi_2WO_6的表面,获得Z-型结构g-C_3N_4/Bi_2WO_6光催化剂。采用XRD,FE-SEM,TEM,UV-Vis-DRS测试手段对催化材料的组成、形貌和光吸收特性进行表征。以亚甲基蓝(MB)和对硝基苯酚(p-NPh)为模型污染物,考察g-C_3N_4量子点表面修饰对Bi_2WO_6光催化活性的影响。结果表明:所得Bi_2WO_6为三维分级多孔结构,孔尺寸约为10nm,浸渍-焙烧法可将尺寸约5nm的g-C_3N_4量子点沉积在其二级结构纳米片表面。Z-型结构g-C_3N_4/Bi_2WO_6光催化剂的催化活性优于纯Bi_2WO_6的,且10%g-C_3N_4/Bi_2WO_6(质量分数)异质光催化剂对MB的降解表观速率常数(k_(app))分别为纯Bi_2WO_6和g-C_3N_4的4.5倍和5.8倍,对p-NPh的k_(app)分别为纯Bi_2WO_6和g-C_3N_4的2.6倍和1.6倍。O■是光催化过程中的主要活性物种。g-C_3N_4量子点与Bi_2WO_6形成异质结,有利于拓宽光响应范围的同时有效抑制了Bi_2WO_6光生电子与空穴的复合,从而提高了催化剂的活性。

关 键 词:三维Bi2WO6  量子点修饰  Z-型g-C3N4/Bi2WO6  活性增强机理
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