| 苯并三氮唑和5—羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用的光电化学比较 |
| |
| 引用本文： | 徐群杰,周国定,陆柱. 苯并三氮唑和5—羧基苯并三氮唑对铜缓蚀作用的光电化学比较[J]. 中国有色金属学报, 2001, 11(5): 925-929 |
| |
| 作者姓名： | 徐群杰 周国定 陆柱 |
| |
| 作者单位： | 1. 上海电力学院
2. 华东理工大学防腐蚀中心, |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(298760 08); 上海市自然科学基金资助项目; 厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室资助项目 |
| |
| 摘 要： | 采用光电化学方法和交流阻方法对不同浓度的BTA（苯并三氮唑）和5CBTA（5－羧基苯并三氮唑）在硼砂缓冲溶液（pH9.2)中对铜电极的缓蚀性能作了比较研究，研究发现两者对铜的缓蚀作用机理不同，一定浓度的BTA能使电极表面Cu2O膜的结构改变，在电位正向扫描过程中铜电极光响应由p型转化为n型，并可依此判断缓蚀剂的缓蚀性能，n型光响应越大，缓蚀剂的缓蚀性能越好，而5CBTA能使电极表面的Cu2O膜增多，在电位负向扫描过程中阴极光电流密度明显增大，并可据此判断缓蚀剂的缓蚀性能，阴极光电流密度愈大，缓蚀效果越好，同时这两种缓蚀剂均可用φv和某一较负电位下的阴极光电流密度Jph的大小来判断缓蚀剂的缓蚀性能，φv的Jph越负，缓蚀性能越好，交流阻抗方法的结果和光电化学的结果相一致。
|
| 关 键 词： | 苯并三氮唑 羧基苯并三氮唑 铜电极 光电化学 交流阻抗 缓蚀剂 |
| 文章编号： | 1004-0609(2001)05-0925-05 |
| 修稿时间： | 2000-09-29 |
Photoelectrochemical comparison of inhibiting action of BTA and 5CBTA on copper |
| |
| XU Qun jie ,ZHOU Guo ding ,LU Zhu. Photoelectrochemical comparison of inhibiting action of BTA and 5CBTA on copper[J]. The Chinese Journal of Nonferrous Metals, 2001, 11(5): 925-929 |
| |
| Authors: | XU Qun jie ZHOU Guo ding LU Zhu |
| |
| Affiliation: | XU Qun jie 1,ZHOU Guo ding 1,LU Zhu 2 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | BTA 5CBTA copper electrode photoelectrochemistry AC impedance |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
