金黄色铬膜层的脉冲电沉积及其表征 |
| |
引用本文: | 陈华毅,许书楷.金黄色铬膜层的脉冲电沉积及其表征[J].电镀与涂饰,1991,10(3):18-22. |
| |
作者姓名: | 陈华毅 许书楷 |
| |
作者单位: | 厦门大学,厦门大学,厦门大学 |
| |
摘 要: | 本文采用方波脉冲电流电沉积法,探索方波脉冲参数对金黄色铬膜层形成的影响,并采用xps等表面分析手段对膜层进行表征.实验结果表明:在CrO_3水溶液中采用脉冲电流沉积金黄色铬膜层,脉冲参数的改变直接影响沉积层的厚度及其色调.采用较高的脉冲电流及较小的脉冲周期和占空比,可获得结合力良好,颜色均匀的膜层.较适宜的条件为Ipc40~60A/dm~2;T40~60ms;t_1/t_1+t_2 2/10~4/10;沉积时间为30~60s;膜层主要由CrOOH,CrPO_4,Cr(O),H_2O及吸附于表面的CrO_4~(2-),PO_4~(3-)所组成.厚度范围为100~350nm.膜层表面形貌为团状沉积物.
|
关 键 词: | 镀铬 电沉积 脉冲 电镀 铬膜层 |
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录! |
|