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| 一种新型钽薄膜光刻腐蚀液 | |
| 作者姓名： | 刘苏平 |
| 作者单位： | 西安光机所光电子部 |
| 摘 要： | 钽金属是一种化学性质很稳定的金属,室温下几乎不发生氧化.因而,钽金属薄膜被广泛地应用于微波混合集成电路、精密电阻、电容.由于钽的化学稳定性,其光刻腐蚀液便很难满足设计需要,目前应用的KMnO_4+KOH+H_2O刻蚀液,由于对光刻胶的严重破坏性,使光刻精度很低,工艺稳定性和重复性很不好,影响了钽金属的应用,为此我们研究得出一种新型钽薄膜光刻腐蚀液,基本解决了以上困难,现介绍如下: |
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