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| 集成电路中金属硅化物的发展与演变 | |
| 作者姓名： | 方志军 汤继跃 许志 |
| 作者单位： | 应用材料（中国）公司 |
| 摘 要： | 金属硅化物在VLSI/ULSI器件技术中起着非常重要的作用,被广泛应用于源漏极和硅栅极与金属之间的接触。其中自对准硅化物（self-aligned silicide）工艺已经成为近期的超高速CMOS逻辑大规模集成电路的关键制造工艺之一。 |
| 关 键 词： | 大规模集成电路 金属硅化物 VLSI/ULSI 演变 自对准硅化物 制造工艺 器件技术 CMOS |
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