| 利用RIE技术形成真空磁敏传感器的场发射阵列电子源 |
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| 引用本文： | 刘新福 金薇. 利用RIE技术形成真空磁敏传感器的场发射阵列电子源[J]. 仪表技术与传感器, 1996, 0(11): 17-19 |
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| 作者姓名： | 刘新福 金薇 |
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| 作者单位： | 华东师范大学电子科学技术系 上海市200062(刘新福，李琼，陈春辉)，华东师范大学化学系 上海市200062(金薇) |
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| 基金项目： | 上海市自然科学基金赞助 |
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| 摘 要： | 作者将现有DD—250淀积设备改装后用于RIE刻蚀,能够刻蚀出良好的FEA尖端阵列,并摸索出了一套RIE刻蚀磁敏传感器件的FEA尖端的工艺条件和工艺参数。本文对各种工艺条件和工艺参数作具体描述。
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| 关 键 词： | 磁敏传感器 场发射阵列 反应离子刻蚀 |
Fabrication of Field Emission Array as Magnetic Sensor Electron Sources Using RIE Technique |
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| Liu Xinfu,Li Qiong,and Chen ChunhuiEast China Normal University,Shanghai .. Fabrication of Field Emission Array as Magnetic Sensor Electron Sources Using RIE Technique[J]. Instrument Technique and Sensor, 1996, 0(11): 17-19 |
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| Authors: | Liu Xinfu Li Qiong and Chen ChunhuiEast China Normal University Shanghai . |
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| Affiliation: | Liu Xinfu,Li Qiong,and Chen ChunhuiEast China Normal University,Shanghai 200062. |
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| Abstract: | A Model DD-250 deposition system is modified to be used for the RIE process to fabricate field emission arrays (FEA) with good shape and appropriate dimensions and suitable for magnetic sensor applications. The detailed process conditions and process parameters are described in this paper. |
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| Keywords: | Magnetic Sensor Field Emission Array RIE. |
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