镍基电沉积制备聚8-羟基喹啉薄膜 |
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引用本文: | 刘小勤,曾冬铭,黄凤祥,刘中兴.镍基电沉积制备聚8-羟基喹啉薄膜[J].电镀与涂饰,2013(11):1-4. |
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作者姓名: | 刘小勤 曾冬铭 黄凤祥 刘中兴 |
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作者单位: | 中南大学化学化工学院;中南大学有色金属资源化学教育部重点实验室;特能宝化学原料有限公司 |
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基金项目: | 中南大学中央高校基本科研业务费专项资金(2013zzts172) |
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摘 要: | 采用8羟基喹啉的碱性水溶液,分别通过循环伏安法和恒电位法在镍基体上电沉积制备了聚8羟基喹啉薄膜。探讨了2种方法制备聚8羟基喹啉薄膜的电化学行为,并对比研究了不同方法所得试样的表面形貌和耐蚀性。结果表明,循环伏安法电沉积聚8羟基喹啉的氧化峰为0.563 V和0.481 V,还原峰则位于0.318 V;恒电位法电沉积聚8羟基喹啉包含聚合物成核和长大2个过程。恒电位法所得聚8羟基喹啉薄膜较循环伏安法所得膜更平整,耐蚀性更好。聚8羟基喹啉薄膜增大了基体表面的电荷转移电阻,隔绝了腐蚀介质,从而有效增强了镍基体的耐蚀性。
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关 键 词: | 镍镀层 羟基喹啉 电沉积 聚合 循环伏安法 恒电位法 耐蚀性 |
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