溅射(Ti,Al)N薄膜的机械性能 |
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作者姓名: | 戴吉岩 吴家庆 王国清 殷志强 管伟 |
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作者单位: | 清华大学电子工程系(戴吉岩,吴家庆,王国清,殷志强),西德亚琛技术大学材料科学研究所(管伟) |
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摘 要: | 运用直流平面磁控反应溅射在抛光淬火的TSA碳素工具钢上沉积(Ti,Al)N薄膜。研究了反应气体N_2流量与基片偏压对形成(Ti,Al)N薄膜的显微硬度的影响。在N_2流量约为10sccm,P_(N2)/P_(Ar),约为0.12与偏压U_B=200V时,(Ti,Al)N薄膜的显微硬度接近极大,可达3000kgf/mm~2。(Ti,Al)N薄膜划痕实验的临界负载L_c约为31N。磨损实验表明,(Ti,Al)N薄膜比淬火的T8A碳素工具钢基底具有好得多的耐磨损特性。微观分析表明(Ti,Al)N薄膜具有良好的抗氧化性能是由于氧化过程中在薄膜表面形成Al-O保护层。
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