| 霍尔无栅离子源的离子束性能测试 |
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| 引用本文： | 秦君军,朱昌,潘永强,陈智利,杭凌侠. 霍尔无栅离子源的离子束性能测试[J]. 西安工业学院学报, 2002, 22(4): 297-299 |
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| 作者姓名： | 秦君军 朱昌 潘永强 陈智利 杭凌侠 |
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| 作者单位： | 西安工业学院光电科学与工程系 陕西西安710032(秦君军，朱昌，潘永强，陈智利)，西安工业学院光电科学与工程系 陕西西安710032(杭凌侠) |
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| 基金项目： | 陕西省重点实验室访问学者专项基金 |
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| 摘 要： | 介绍了一种新型离子源－霍尔无栅离子源，并论述了其工作原理。这种源不仅具有大束流、低能量和大辐照面积等优点，而且克服了现有的有栅离子源的技术局限性。实验结果证明，霍尔无栅离子源的离子流分布均匀性较好，离子束能量在30－120eV范围内。
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| 关 键 词： | 测试 霍尔无栅离子源 离子束性能 工作原理 工业镀膜 离子束辅助蒸发 |
| 文章编号： | 1000-5714(2002)04-0297-03 |
| 修稿时间： | 2002-03-14 |
Study on ion beam property of end-Hall ion source |
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| QIN Jun jun,ZHU Chang,PAN Yong qiang,CHEN Zhi li,HANG Ling xia. Study on ion beam property of end-Hall ion source[J]. Journal of Xi'an Institute of Technology, 2002, 22(4): 297-299 |
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| Authors: | QIN Jun jun ZHU Chang PAN Yong qiang CHEN Zhi li HANG Ling xia |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | end Hall ion source ion beam property |
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