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纳米碳化硅表面修饰的工艺研究及结构表征
作者姓名:宿辉  刘辉  乔春玉  曹茂盛  原小寓  王晓丹  崔旭光  胡明星
作者单位:黑龙江工程学院材料与化学工程学院;北京理工大学材料科学与工程学院;
基金项目:黑龙江省教育厅项目(11551390)
摘    要:针对(SiC)P纳米微粒在应用中存在的易团聚、材料间相容性差等关键技术问题,采用化学镀方法对(SiC)P纳米微粒进行了表面修饰。设计了实验方案,优化了工艺参数。实验结果表明,预处理过程、镀液的温度、pH等对修饰效果影响较大。确定适合的工艺参数,镀液θ为45℃、pH为9.0。电子显微镜、能谱仪等仪器表征显示,修饰后的SiC微粒近球形,形貌均匀,有明显的核、壳部分,核壳处不同的衬度表明(SiC)P微粒表面沉积了较多的金属Ni,形成了碳化硅-镍核壳结构复合粒子。

关 键 词:(SiC)P微粒  核壳结构  Ni  化学镀  结构表征
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