化学镀铜溶液中稳定剂的研究 |
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引用本文: | 孔德龙,谢金平,范小玲,肖宁,黎德育,李宁.化学镀铜溶液中稳定剂的研究[J].电镀与精饰,2014(3). |
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作者姓名: | 孔德龙 谢金平 范小玲 肖宁 黎德育 李宁 |
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作者单位: | 哈尔滨工业大学化工学院;广东致卓精密金属科技有限公司; |
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摘 要: | 对四羟丙基乙二胺和EDTA双络合剂化学镀铜溶液稳定剂进行研究。用高温大负载施镀实验进行初步筛选,研究了筛选出的稳定剂对沉积速率、镀液稳定性及镀层的影响。结果表明,亚硫酸钠和吐温-60能提高镀液稳定性并能获得较好的镀层。将亚硫酸钠与吐温-60进行组合,可提高镀液稳定性,沉积速率可达7.29μm/h。用线性扫描和交流阻抗的方法对亚硫酸钠和吐温-60提高镀液稳定性的机理进行研究,结果表明,亚硫酸钠主要是与Cu+形成稳定的配合物,而吐温-60则是与Cu0吸附并使其失去催化活性。
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关 键 词: | 化学镀铜 四羟丙基乙二胺 稳定剂 沉积速率 |
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