| DMCPS电子回旋共振等离子体沉积的SiCOH低介电常数薄膜结构及物性研究 |
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| 引用本文： | 叶超,宁兆元,王婷婷,俞笑竹.DMCPS电子回旋共振等离子体沉积的SiCOH低介电常数薄膜结构及物性研究[J].真空科学与技术学报,2005,25(Z1):97-100. |
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| 作者姓名： | 叶超 宁兆元 王婷婷 俞笑竹 |
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| 作者单位： | 苏州大学物理科学与技术学院,苏州,215006 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(No.) |
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| 摘 要： | 本文采用电子回旋共振(ECR)等离子体技术和十甲基环五硅氧烷(DMCPS)源开展了SiCOH薄膜的研究工作,获得了介电常数为2.88的SiCOH低介电常数薄膜.薄膜经400℃热处理后,膜厚减小,最大相对变化率小于15%,呈现较好的热稳定性.薄膜在1MV/cm场强下的漏电流为8.9×10-6A/cm2,且场强达到2.5 MV/cm时,未发生击穿现象,具有较优越的绝缘性能.因此,采用ECR-CVD技术和DMCPS源可以制备热稳定性优良的、绝缘性能优越的低介电常数SiCOH薄膜.
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| 关 键 词： | 低介电常数薄膜 电子回旋共振等离子体 |
| 文章编号： | 1672-7126(2005)增-097-04 |
| 修稿时间： | 2004年12月1日 |
Properties and Microstructures of Low-κ SiCOH Films Grown by Electron Cyclotron Resonance Plasma of Decamethylcyclopentasiloxane |
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| Ye Chao,Ning Zhaoyuan,Wang Tingting,Yu Xiaozhu.Properties and Microstructures of Low-κ SiCOH Films Grown by Electron Cyclotron Resonance Plasma of Decamethylcyclopentasiloxane[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2005,25(Z1):97-100. |
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| Authors: | Ye Chao Ning Zhaoyuan Wang Tingting Yu Xiaozhu |
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