| 铝掺杂氧化锌薄膜在玻璃衬底上的RF反应共溅射低温织构生长 |
| |
| 引用本文： | 邵乐喜,张昆辉,黄惠良.铝掺杂氧化锌薄膜在玻璃衬底上的RF反应共溅射低温织构生长[J].半导体学报,2003,24(6):606-611. |
| |
| 作者姓名： | 邵乐喜 张昆辉 黄惠良 |
| |
| 作者单位： | 湛江师范学院信息科技学院，国立清华大学电子工程研究所，国立清华大学电子工程研究所 湛江524048，国立清华大学电子工程研究所，新竹300，新竹300，新竹300 |
| |
| 基金项目： | 广东省教育厅自然科学基金;200048; |
| |
| 摘 要： | 以金属锌( Zn)和铝( Al)为靶材采用射频( RF)反应共溅射技术在低温( 2 0 0℃)玻璃衬底上沉积了铝掺杂氧化锌( Zn O∶Al)薄膜.运用扫描电子显微镜( SEM)、能量色散X射线谱( EDX)、表面轮廓仪(α- Step)、X射线衍射( XRD)和双光束紫外-可见光谱仪( U V- VIS)等分别对沉积样品的表面和断面的形貌结构、组成成分和光学特性进行了分析表征.研究了反应气体氧与氩流量比( O2 / Ar)和RF溅射功率对沉积样品的生长速率、结构特征和光电学性质的影响.结果表明,薄膜的成长速率强烈依赖于RF溅射功率,而薄膜的结构形貌和成分的化学配比则主要由反应气体流量比O2 / Ar
|
| 关 键 词： | 铝掺杂氧化锌(ZnO∶Al)薄膜 射频(RF)反应共溅射 织构 低温沉积 未退火 |
| 文章编号： | 0253-4177(2003)06-0606-06 |
| 修稿时间： | 2002年7月27日 |
Preparation and Characterization of Al Doped ZnO Thin Films Textured on Glass at Low Temperature by RF Reactive Co-Sputtering |
| |
| Shao Lexi ,Chang Kuenhuei and Hwang Heuyliang.Preparation and Characterization of Al Doped ZnO Thin Films Textured on Glass at Low Temperature by RF Reactive Co-Sputtering[J].Chinese Journal of Semiconductors,2003,24(6):606-611. |
| |
| Authors: | Shao Lexi Chang Kuenhuei and Hwang Heuyliang |
| |
| Affiliation: | Shao Lexi 1,2,Chang Kuenhuei 2 and Hwang Heuyliang 2 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《半导体学报》下载全文 |
