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亚微米GaAs PHEMT器件的结构设计与优化
引用本文:李拂晓,郑惟彬,康耀辉,黄庆安,林罡. 亚微米GaAs PHEMT器件的结构设计与优化[J]. 微波学报, 2007, 23(1): 52-55
作者姓名:李拂晓  郑惟彬  康耀辉  黄庆安  林罡
作者单位:1. 东南大学MEMS教育部重点实验室,江苏省南京市,210000;南京电子器件研究所单片集成电路与模块电路国家重点试验室,江苏省南京市,210000
2. 南京电子器件研究所单片集成电路与模块电路国家重点试验室,江苏省南京市,210000
3. 东南大学MEMS教育部重点实验室,江苏省南京市,210000
摘    要:主要论述了采用POSES软件对亚微米GaAs PHEMT器件进行的结构设计与优化。在结构设计过程中,本文首先简要分析了PHEMT器件的工作原理;然后利用POSES软件数值求解了材料结构和器件性能之间的关系,并根据上述分析结果优化器件结构设计,完成流片实验。流片得到的0.25μm GaAs PHEMT器件的性能参数为:跨导gm=440mS/mm、截止频率fT=50GHz、最大振荡频率fmax>80GHz,显示出良好的DC和AC小信号特性。

关 键 词:砷化镓  膺配高电子迁移率晶体管  二维电子气
文章编号:1005-6122(2007)01-0052-04
收稿时间:2006-05-08
修稿时间:2006-09-02

The Design and Optimization of the Sub-micron GaAs PHEMT Device
LI Fu-xiao,ZHENG Wei-bin,KANG Yao-hui,HUANG Qing-an,LIN Gang. The Design and Optimization of the Sub-micron GaAs PHEMT Device[J]. Journal of Microwaves, 2007, 23(1): 52-55
Authors:LI Fu-xiao  ZHENG Wei-bin  KANG Yao-hui  HUANG Qing-an  LIN Gang
Affiliation:1. Key laboratory of MEMS of the Ministry of Education, Southeast University 210096, China; 2. National Key Laboratory of Monolithic Integrated Circuits and Modules, Nanjing Electronic Device Institute 210016, China
Abstract:
Keywords:GaAs  PHEMT  2DEG
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