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Si3N4陶瓷在高温熔盐-水氧环境下的腐蚀行为
引用本文:邱子豪,田志林,郑丽雅,李斌.Si3N4陶瓷在高温熔盐-水氧环境下的腐蚀行为[J].无机材料学报,2024(3):274-283.
作者姓名:邱子豪  田志林  郑丽雅  李斌
作者单位:中山大学材料学院
基金项目:国家自然科学基金(52202078,52202126);;广东省基础与应用基础研究基金(2021A1515110293,2022A1515012201,2021B1515020083);
摘    要:熔盐电解是核能领域乏燃料干法后处理的关键技术。高温下熔盐会对盛装乏燃料的坩埚造成严重的腐蚀,因此,研发具有耐高温和抗腐蚀的坩埚材料是发展干法后处理技术的关键。Si3N4凭借其优异的高温热学和力学性能,成为干法后处理工艺中坩埚的理想候选材料。然而在实际服役条件下,Si3N4面临高温熔盐和水氧的侵蚀,其失效行为尚不明确。因此,本工作选取Si3N4为研究对象,在氩气和水氧(5%H2O-10%O2-85%Ar)环境中,开展了LiCl-KCl和NaCl-2CsCl熔盐对Si3N4的腐蚀行为研究。研究发现,在氩气环境中,Si3N4在LiCl-KCl熔盐中出现轻微的晶界腐蚀,而NaCl-2CsCl熔盐对其腐蚀并不明显。在5%H2O-10%O2-85%Ar水氧耦合环境中,LiCl-KCl熔盐优先腐蚀...

关 键 词:Si3N4  晶界相  熔盐  水氧  干法后处理
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