| 直流磁控溅射制备Zr-B-O薄膜及其热稳定性 |
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| 引用本文： | 孟瑜,宋忠孝,畅庚榕,刘明霞,成桢,徐可为.直流磁控溅射制备Zr-B-O薄膜及其热稳定性[J].材料热处理学报,2021,42(11):124-130. |
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| 作者姓名： | 孟瑜 宋忠孝 畅庚榕 刘明霞 成桢 徐可为 |
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| 作者单位： | 西安文理学院陕西省表面工程与再制造重点实验室,陕西西安710065;西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西西安710049 |
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| 摘 要： | 利用直流磁控溅射技术在Si(100)基底上制备了不同偏压的Zr-B-O和Cu/Zr-B-O薄膜体系,采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)等对薄膜样品的微观组织形貌和热稳定性进行表征分析.结果 表明:不同偏压得到的Zr-B-O薄膜均为非晶结构,薄膜表面平整,膜厚均匀,膜基结合良好,薄膜方阻随偏压增加而减小;当退火温度低于750℃时,Cu膜表面完整连续,方阻较小,750℃退火后,由于Cu膜严重聚集并出现孔洞导致薄膜不连续而使电阻增加,但未发生Cu与Si的扩散,说明非晶Zr-B-O薄膜仍可以有效阻挡扩散.
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| 关 键 词： | Zr-B-O薄膜 直流溅射 偏压 微观结构 热稳定性 |
Preparation and thermal stability of Zr-B-O thin films by DC magnetron sputtering |
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| MENG Yu,SONG Zhong-xiao,CHANG Geng-rong,LIU Ming-xia,CHENG Zhen,XU Ke-wei.Preparation and thermal stability of Zr-B-O thin films by DC magnetron sputtering[J].Transactions of Materials and Heat Treatment,2021,42(11):124-130. |
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| Authors: | MENG Yu SONG Zhong-xiao CHANG Geng-rong LIU Ming-xia CHENG Zhen XU Ke-wei |
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