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| HL—1M装置硼化,硅化和锂化壁的出气特性 | |
| 引用本文： | 严东海,王恩耀.HL—1M装置硼化,硅化和锂化壁的出气特性[J].四川真空,1997(2):37-44. |
| 作者姓名： | 严东海 王恩耀 |
| 摘 要： | 借助ＱＭＳ诊断技术，完成了ＨＬ－１Ｍ装置Ｂ化，Ｓｉ化与Ｌｉ化壁的出气特性的对比实验研究。ＧＤＣ期间，Ｈ２出气占支配地位，杂质分压与Ｈ２分压成正比，ＧＤＣ后的本底放气率较同时间烘烤去气后低；ＧＤＣ（Ｈｅ＋Ｈ２）是去除膜的有效方法；Ｂ化、Ｓｉ化和Ｌｉ化壁相比，托卡马了放电后的Ｈ２出量绋１：０．１３：０．２１。其中Ｂ化壁Ｈ２出气量主于ｓｓ壁，Ｓｉ化和Ｌｉ化壁则低于ｓｓ壁，出Ｈ２量／送Ｈ２量，ｓｓ壁为０． |
| 关 键 词： | 壁处理 出气特性 真空壁条件 托卡马克装置 |
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