| 磁控溅射AlCrFeNiTi高熵合金薄膜的组织和表面形貌 |
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| 引用本文： | 张微,刘亮,商剑,赵作福,张越,齐锦刚,王冰. 磁控溅射AlCrFeNiTi高熵合金薄膜的组织和表面形貌[J]. 电镀与涂饰, 2021, 40(19): 1489-1493. DOI: 10.19289/j.1004-227x.2021.19.006 |
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| 作者姓名： | 张微 刘亮 商剑 赵作福 张越 齐锦刚 王冰 |
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| 作者单位： | 辽宁工业大学材料科学与工程学院,辽宁 锦州 121001 |
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| 摘 要： | 用直流磁控溅射法在单晶硅片上制备了AlCrFeNiTi高熵合金薄膜,采用X射线衍射仪、扫描电镜和原子力显微镜考察了溅射参数对薄膜结构及表面形貌的影响.结果表明,当溅射功率一定,随着衬底温度升高,AlCrFeNiTi高熵合金薄膜由非晶向2个BCC相转变,衍射峰强度也随之增大,同时薄膜的结晶度提高,晶粒尺寸增大,导致薄膜粗糙度增加.当衬底温度一定时,随着溅射功率增大,X射线衍射峰强度大幅度上升,薄膜表面晶粒迅速长大,但因为溅射功率过大会导致表面形成缺陷,所以表面粗糙度先减小后增大.
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| 关 键 词： | 高熵合金 铝-铬-铁-镍-钛 磁控溅射 功率 衬底温度 组织 表面形貌 粗糙度 |
Microstructure and surface morphology of magnetron-sputtered AlCrFeNiTi high-entropy alloy film |
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| ZHANG Wei,LIU Liang,SHANG Jian,ZHAO Zuofu,ZHANG Yue,QI Jin'gang,WANG Bing. Microstructure and surface morphology of magnetron-sputtered AlCrFeNiTi high-entropy alloy film[J]. Electroplating & Finishing, 2021, 40(19): 1489-1493. DOI: 10.19289/j.1004-227x.2021.19.006 |
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| Authors: | ZHANG Wei LIU Liang SHANG Jian ZHAO Zuofu ZHANG Yue QI Jin'gang WANG Bing |
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