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| ~(235)U、~(238)U薄靶的制备 | |
| 作者姓名： | 魏永钦 曹德林 王秋玉 |
| 作者单位： | 中国科学院上海原子核研究所(魏永钦，曹德林)，中国科学院上海原子核研究所(王秋玉) |
| 摘 要： | 我们制取了以Al箔、C膜、VYNS膜为衬底的铀薄靶。厚度范围每平方厘米从几十微克到几百微克。1.设备及其方法 放射性真空蒸发装置除了普通真空系统所具备的部件外,还增加了干燥器、液氮冷阱等部件。这样使该装置具有以下三个特点: (1)为了使真空系统保持干燥,有利真空度的提高,在真空泵和扩散泵之间串接了一只盛有五氧化二磷的干燥器。 |
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