| 氩氧比例对Al2O3薄膜结构及性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 杨和梅,姚正军,闫凯,陈丹丹. 氩氧比例对Al2O3薄膜结构及性能的影响[J]. 有色金属, 2009, 61(3) |
| |
| 作者姓名： | 杨和梅 姚正军 闫凯 陈丹丹 |
| |
| 作者单位： | 1. 南京农业大学工学院机械系,南京,210031
2. 南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京,210016 |
| |
| 基金项目： | 江苏省自然科学基金资助项目 |
| |
| 摘 要： | 以纯铝为靶材,在不同氩氧比例下,采用直流反应磁控溅射方法制备Al2O3薄膜.利用X射线衍射(XRD)、能谱(EDS)、扫描电镜(SEM)和精密阻抗分析等方法检测薄膜的组织结构、化学成分和介电性能.结果表明,在250℃的低温条件下,不同氩氧比例的Al2O3薄膜都为非晶结构.随着氧分量的增加,Al2O3薄膜的表面由平滑致密变得粗糙,化学计量失配度增大.在氧分量较小的气氛下,Al2O3薄膜均匀致密,化学计量失配度较小,Al/O原子比接近2/3.随着氩氧比的增大,Al2O3薄膜的介电常数减小和介电损耗增大,当氩氧比为3:1时,Al2O3薄膜的介电常数较大(ε=7.9～10.3),介电损耗较小(tanδ<0.2),薄膜的介电性能相对较好.
|
| 关 键 词： | 无机非金属材料 Al2O3薄膜 直流反应磁控溅射 氩氧比 介电性能 |
Influence of Ar/O2 Ratio on Microstructures and Properties of Al2O3 Thin Films |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
