休斯公司利用聚焦离子束技术曝光出宽1200nm的线条图形

最近,美国Malibu,Calif.休斯研究所的一组科技人员在GaAs圆片上的PMMA抗蚀剂涂层上成功地制造出清晰明瞭的宽120(?)线条(见下图)。所用曝光工具为超高强度聚焦镓离子束。 休斯公司的科学家相信本实验的成功是量子效应器件变成现实的一个重要突破。这种器件基于量子力学基本原理,其工作速度比通常IC器件的极限速度至少大10倍。