高纯石英(SiO2)评述(二):晶格杂质的活化与分离技术 |
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作者姓名: | 林敏 贾倩 刘子源 魏炎 刘斌 孟雨 邱航 徐顺秋 雷绍民 |
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作者单位: | 1.武汉京东方光电科技有限公司,湖北 武汉 430040 |
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摘 要: | 高纯石英著以杂质极少、纯度极高,现已广泛地应用于光纤通信、光伏、航空航天、半导体显示等高新技术产业。广泛赋存于石英晶体结构中的微量金属、非金属元素(H、Li、B、Na、Al、P、K、Ca、Fe、Ti等)因被Si-O-Si键紧密束缚而难以被常规的选矿技术分离。本文详细地阐述了高纯石英中被晶格束缚的微量元素赋存机制,并对国际上高品质石英晶体结构中的微量元素的先进分离技术进行了全面、系统地概述;基于近年来我国高纯石英基础理论研究进展,对我国高纯石英晶格杂质分离的基础理论研究提出合理化的科学建议。
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关 键 词: | 高纯石英 晶格杂质 分析与分离 |
收稿时间: | 2020-08-25 |
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