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| XEA枪聚焦性能研究 | |
| 引用本文： | 邹小豹,李朝明,董北斗.XEA枪聚焦性能研究[J].真空电子技术,2003(5):27-31. |
| 作者姓名： | 邹小豹 李朝明 董北斗 |
| 作者单位： | 广东福地科技股份有限公司,广东,东莞,523077 |
| 摘 要： | 日立公司的EA—UB电子枪是比较成熟的产品，形成了EA—UB枪、SDF枪、AF枪等系列产品，用于大屏幕彩管。为了进一步改进电子枪的聚焦性能，保证大屏幕纯平面彩管的品位，日立公司最近开发出新一代XEA电子枪。本文对XEA电子枪电子束形成区、主透镜等进行了计算机模拟，对该枪优异性能的内在原因进行了分析和研究。 |
| 关 键 词： | 聚焦 会聚 偏转像散 最小交叉截面 |
| 文章编号： | 1002-8935(2003)05-0027-05 |
| 修稿时间： | 2002年11月25 |
Study on Focusing Performance of XEA Electron Gun |
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| Abstract: | |
| Keywords: | Focus Convergence Deflection astigmatism Crossover |
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