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双层SiN 膜多晶硅太阳电池抗PID性能研究
引用本文:罗旌旺,王祺,芮春保,孔凡建.双层SiN 膜多晶硅太阳电池抗PID性能研究[J].电源技术,2014(12).
作者姓名:罗旌旺  王祺  芮春保  孔凡建
作者单位:江苏辉伦太阳能科技有限公司新能源研究中心,江苏南京,210032
摘    要:以双层SiN 膜多晶硅太阳电池为研究对象,通过调整PECVD工艺参数制备不同折射率和厚度的双层氮化硅减反射膜太阳电池,并用玻璃、EVA和背板等将电池片封装成光伏组件,进行85℃、85%RH条件下组件电势诱导衰减(PID)实验。研究结果表明:(1)改变内层折射率和厚度保持外层较低的折射率时,双层氮化硅膜太阳电池均会发生严重的PID效应;(2)但随着外层折射率提高,电池PID效应显著减小,外层折射率≥2.15的电池PID实验600 h功率衰减小于5%;(3)双层氮化硅膜抗PID太阳电池的转化效率略低于普通太阳电池,但其组件的封装损失较小,与普通电池的组件功率相当,因此具有很好的应用前景。

关 键 词:多晶硅  太阳电池  电势诱导衰减  双层氮化硅膜  光伏组件

Research on anti-PID performance of double-layer SiN film poly-crystalline silicon solar cell
LUO Jing-wang,WANG Qi,RUI Chun-bao,KONG Fan-jian.Research on anti-PID performance of double-layer SiN film poly-crystalline silicon solar cell[J].Chinese Journal of Power Sources,2014(12).
Authors:LUO Jing-wang  WANG Qi  RUI Chun-bao  KONG Fan-jian
Abstract:
Keywords:poly-crystal ine silicon  solar cel  potential induced degradation  double-layer film  photovoltaic module
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