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一种钕含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功
作者姓名:
刘跃
摘 要:
正由日本国立材料研究所Kazuhire Hono博士领衔的课题组合成了一种新型磁性化合物,其钕含量比目前流行的钕铁硼低。这种新型磁性化合物化学式为NdF e12N,钕含量17%,而钕铁硼的钕含量为27%,但前者的内禀硬磁性能高于后者。尤其值得注意的是,这种新型磁性化合物的居里温度比钕铁硼高200度。在以往稀土磁体研究中曾出现过化学式为NdF e11TiN的磁性化合物,钛虽然是非磁性的,但加入钛才能使该化合物保持稳定,但正
关 键 词:
磁性化合物
钕铁硼
稀土磁体
课题组合
材料研究所
居里温度
合成步骤
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