| 氢氟酸在新型清洗工艺中的作用 |
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| 引用本文： | 曹宝成,于新好,马洪磊,张庆坤. 氢氟酸在新型清洗工艺中的作用[J]. 半导体技术, 2002, 27(7): 23-25. DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2002.07.008 |
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| 作者姓名： | 曹宝成 于新好 马洪磊 张庆坤 |
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| 作者单位： | 山东大学物理学与微电子学学院,山东,济南,250100 |
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| 基金项目： | 山东省自然科学基金;; |
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| 摘 要： | 介绍了HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中对硅片表面的作用,无论是常规的酸碱清洗还是DGQ系列清洗剂的清洗,在没有HF稀溶液浸泡的情况下,1108波数处的吸收都是不同价态硅氧化物的复合吸收,用HF稀溶液浸泡后清洗的硅片,复合吸收变成仅有二氧化硅的吸收.
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| 关 键 词： | 硅片清洗 氢氟酸 润湿性 |
| 文章编号： | 1003-353X(2002)07-0023-03 |
| 修稿时间： | 2001-04-29 |
Function of HF solution in new cleaning technique |
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| CAO Bao-cheng,YU Xin-hao,MA Hong-lei,ZHANG Qing-kun. Function of HF solution in new cleaning technique[J]. Semiconductor Technology, 2002, 27(7): 23-25. DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2002.07.008 |
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| Authors: | CAO Bao-cheng YU Xin-hao MA Hong-lei ZHANG Qing-kun |
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| Abstract: | This paper reports the function of HF solution in DGQ series cleaning techniquefor the silicon surface.Whether it is cleaned by ordinary acid and alkali,or by DGQ series cleaningagent,under a lack of dipping silicon wafer in HF solution,the absorbability of wavenumber1108cm-1 is complex absorbability of differ value state silicon oxide,after dipping silicon waferin HF solution,the complex absorbability turned to absorbability of SiO2 only. |
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| Keywords: | Si wafer cleaning HF wetting character |
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