HL-1M装置器壁锻炼 |
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作者姓名: | 王明旭 张年满 王志文 邓冬生 严东海 崔成和 梁雁 王恩耀 刘永 朱毓坤 |
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摘 要: | HL-1M装置运行的7年中,系统地研究了器壁原位清洗、原位硼化、硅化、锂化和锂-硅复合处理以及涂层的原位清除技术。由于原位硅化具有稳定、良好的杂质和再循环控制能力,使其成为HL-1M装置进行改善等离子体约束实验必不可少的壁处理手段。锂-硅复合壁具有锂壁的低杂质、低氢再循环和低辐射能量,又具有硅化壁长寿命的特点,是目前最佳的壁处理手段。He-GDC取代了H2-TDC,在器壁原位清洗、器壁原位处理和涂层原位清除中扮演了重要角色。
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关 键 词: | HL-1M装置 硅化 原位清洗 辐射能量 取代 杂质 再循环 涂层 锂化 复合 |
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