| 一种快速关断沟槽型SOI LDMOS器件 |
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| 引用本文： | 樊冬冬,汪志刚,杨大力,陈向东. 一种快速关断沟槽型SOI LDMOS器件[J]. 微电子学, 2017, 47(2): 243-246, 263 |
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| 作者姓名： | 樊冬冬 汪志刚 杨大力 陈向东 |
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| 作者单位： | 西南交通大学 信息科学与技术学院, 成都 610031,西南交通大学 信息科学与技术学院, 成都 610031,西南交通大学 信息科学与技术学院, 成都 610031,西南交通大学 信息科学与技术学院, 成都 610031 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(61404110) |
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| 摘 要： | 围绕降低沟槽型SOI LDMOS功率器件的优值,提出了一种新型多栅沟槽 SOI LDMOS器件(MG-TMOS)。与常规沟槽型SOI LDMOS(C-TMOS)器件相比,新型MG-TMOS器件在不牺牲击穿电压的同时,降低了器件开关切换时充放电的栅漏电荷和器件的比导通电阻。这是因为:1) 新型MG-TMOS器件沟槽里的保护栅将器件的栅漏电容转换为器件的栅源电容和漏源电容,大幅度降低了器件的栅漏电荷；2) 保护栅偏置电压的存在使得器件导通时会在沟槽底部形成一层低阻积累层,从而降低器件的导通电阻。仿真结果表明:该新型沟槽型SOI LDMOS器件的优值从常规器件的503.4 mΩ·nC下降到406.6 mΩ·nC,实现了器件的快速关断。
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| 关 键 词： | 沟槽型SOI LDMOS 栅漏电容 比导通电阻 优值 |
| 收稿时间： | 2016-04-18 |
A Trench SOI LDMOS with High Speed Shutoff |
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| FAN Dongdong,WANG Zhigang,YANG Dali and CHEN Xiangdong. A Trench SOI LDMOS with High Speed Shutoff[J]. Microelectronics, 2017, 47(2): 243-246, 263 |
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| Authors: | FAN Dongdong WANG Zhigang YANG Dali CHEN Xiangdong |
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| Affiliation: | The School of Information Science and Technology, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, P. R. China,The School of Information Science and Technology, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, P. R. China,The School of Information Science and Technology, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, P. R. China and The School of Information Science and Technology, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, P. R. China |
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