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磁控溅射法制备Zn_(1-x)Co_xO薄膜的磁性能
引用本文:林文松,欧阳辰鑫,何亮,王伟. 磁控溅射法制备Zn_(1-x)Co_xO薄膜的磁性能[J]. 材料科学与工程学报, 2009, 0(5)
作者姓名:林文松  欧阳辰鑫  何亮  王伟
作者单位:上海工程技术大学材料工程学院;
基金项目:上海市教委科研创新资助项目(09YZ367); 上海市重点学科建设资助项目(J51402)
摘    要:采用磁控溅射工艺,在玻璃基片上制备了Zn1-xCoxO(x=0.02~0.15)稀磁半导体薄膜。采用X-射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、振动样品磁强计(VSM)研究了薄膜的相结构、化学成分及价态、表面形貌和磁性能。结果表明,本实验条件下,薄膜不存在Co及Co的氧化物相,薄膜中Zn的化学价为+2,Co则以+2和+4价的形式存在;薄膜晶体结构为c轴取向生长的六方纤锌矿结构;薄膜表面平整致密。在温度为300 K时,Zn0.9Co0.1O薄膜呈铁磁效应,在M-H曲线中观测到明显的磁滞回线特征。

关 键 词:磁控溅射  稀磁半导体  Zn1-xCoxO  磁性  

Magnetic Properties of Zn_(1-x)Co_xO Films Prepared by Magnetron Sputtering Process
LIN Wen-song,OUYANG Chen-xin,HE Liang,WANG Wei. Magnetic Properties of Zn_(1-x)Co_xO Films Prepared by Magnetron Sputtering Process[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2009, 0(5)
Authors:LIN Wen-song  OUYANG Chen-xin  HE Liang  WANG Wei
Affiliation:LIN Wen-song,OUYANG Chen-xin,HE Liang,WANG Wei(College of Materials Engineering,Shanghai University of Engineering , Science,Shanghai 201620,China)
Abstract:
Keywords:magnetron sputtering  diluted magnetic semiconductor  Zn_(1-x)Co_xO  magnetic property  
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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