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短沟道MOS阈值电压物理模型
引用本文:谢晓锋,张文俊,杨之廉.短沟道MOS阈值电压物理模型[J].固体电子学研究与进展,2003,23(2):155-158.
作者姓名:谢晓锋  张文俊  杨之廉
作者单位:清华大学微电子学研究所,北京,100084
摘    要:通过求解二维泊松方程推导了一个简洁的短沟道 MOS的阈值电压模型 ,得到的 DIBL因子可用于分析参数对短沟道效应的影响。模拟的结果能很好地与数值模拟器 MINIMOS的结果符合

关 键 词:短沟道  阈值电压  金属-氧化物-半导体场效应晶体管
文章编号:1000-3819(2003)02-155-04
修稿时间:2001年4月13日

A Physical Threshold Voltage Model for Short-channel MOSFET Simulation
XIE Xiaofeng,ZHANG Wenjun,YANG Zhilian.A Physical Threshold Voltage Model for Short-channel MOSFET Simulation[J].Research & Progress of Solid State Electronics,2003,23(2):155-158.
Authors:XIE Xiaofeng  ZHANG Wenjun  YANG Zhilian
Abstract:A threshold voltage model for short-channel MOSFET is developed by solving a 2-D Possion's equation. The derived DIBL factor can be used to analysis the influence of the parameters on short-channel effects. The simulated results by this model are consistence with the results obtained by numerical simulator MINIMOS.
Keywords:short-channel  threshold voltage  MOSFET
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