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| 关于六硝基六氮杂异伍兹烷产品杂质 | |
| 引用本文： | 赵信岐,孙成辉,方涛,冯泽旺,曹克广.关于六硝基六氮杂异伍兹烷产品杂质[J].含能材料,2004,12(Z1):37-40. |
| 作者姓名： | 赵信岐 孙成辉 方涛 冯泽旺 曹克广 |
| 作者单位： | 北京理工大学材料科学与工程学院,北京,100081 |
| 摘 要： | 六硝基六氮杂异伍兹烷(HNIW,CL-20)是第四代含能材料,具有广阔使用前景.本文对国内外CL-20制备的三条工艺路线以及其所产生的杂质进行了讨论.其中,以四乙酰基六氮杂异伍兹烷(TADA)为硝化前体的第三条工艺路线所得CL-20产品纯度高,杂质种类少,能够满足使用要求. |
| 关 键 词： | CL-20 高能量密度化合物 工艺 |
Impurities in Hexanitrohexaazaisowurtzitane |
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