| 优化HFCVD系统内衬底温度场的数值研究 |
| |
| 引用本文： | 戚学贵,陈则韶,王冠中. 优化HFCVD系统内衬底温度场的数值研究[J]. 真空科学与技术学报, 2002, 22(4): 260-264 |
| |
| 作者姓名： | 戚学贵 陈则韶 王冠中 |
| |
| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学工程科学学院,合肥,230027
2. 中国科学技术大学物理系,合肥,230026 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金 (No .5 99760 3 8)资助项目 |
| |
| 摘 要： | 热丝对衬底的辐射是决定热丝化学气相沉积金刚石薄膜系统内衬底表面温度分布的主要因素。本文基于辐射传热基本原理 ,并考虑变热物性衬底的横向热传导 ,改进了衬底温度场的计算模型。数值模拟了衬底表面所受辐射热流密度分布和温度分布 ,结果表明辐射热流密度分布与辐射热平衡得到的温度分布形状一致 ,而衬底横向热传导提高了温度分布的均匀性。进一步计算并讨论了环境温度和热丝高度、数目、间距等几何参数对衬底表面所受辐射热流密度分布和温度分布的影响 ,给出获得 8cm× 8cm大面积均温区对应的热丝几何参数
|
| 关 键 词： | 热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 变热物性 传热 数值模拟 优化 |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)04-0260-05 |
| 修稿时间： | 2001-11-12 |
Numerical Analysis of Substrate Temperature Distribution in Diamond Film Growth by Hot-Filament Chemical Vapor Deposition |
| |
| Qi Xuegui ,Chen Zeshao ,Wang Guanzhong. Numerical Analysis of Substrate Temperature Distribution in Diamond Film Growth by Hot-Filament Chemical Vapor Deposition[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2002, 22(4): 260-264 |
| |
| Authors: | Qi Xuegui Chen Zeshao Wang Guanzhong |
| |
| Affiliation: | Qi Xuegui 1,Chen Zeshao 1,Wang Guanzhong 2 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) Diamond film Variable property Heat transfer Numerical simulation Parameter optimization |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
