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| 4．2K直流背景场下Bi2223超导带材的交流损耗 | |
| 引用本文： | 胡立发 A.Sulpice E.Mossang 李成山 纪平 吴怡芳 冯勇 张平祥 周廉. 4．2K直流背景场下Bi2223超导带材的交流损耗[J]. 稀有金属材料与工程, 2003, 32(9): 769-772 |
| 作者姓名： | 胡立发 A.Sulpice E.Mossang 李成山 纪平 吴怡芳 冯勇 张平祥 周廉 |
| 作者单位： | 1. 西北有色金属研究院,陕西,西安,710016;东北大学,辽宁,沈阳,110006;CRTBT of Centre National De La Recherche Scientifique, Grenoble France 2. CRTBT of Centre National De La Recherche Scientifique, Grenoble France 3. LCMI of Centre National La Recherche Scientifique, Grenoble France 4. 西北有色金属研究院,陕西,西安,710016 |
| 基金项目： | “973”项目(G1999064608) |
| 摘 要： | 研究了Bi2223高温超导带材在4．2K和外加直流背景场条件下的交流损耗。讨论了磁场、电流、基体电阻率、超导芯的数目等因素对交流损耗的影响。所有的测量都在4．2K下进行，外加磁场的幅值最大是5T，损耗的测量采用传输电流法。 |
| 关 键 词： | Bi2223 交流损耗 临界电流 直流磁场 |
| 文章编号： | 1002-185X(2003)09-0769-04 |
| 修稿时间： | 2001-10-09 |
AC Loss in HTS Bi2223 Tapes at 4.2K under DC Applied Magnetic Field |
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| Hu Lif,A.Sulpice,E.Mossang,Li Chengshan,Ji Ping,Wu Yifang,Feng Yong,Zhang Pingxiang,Zhou Lian. AC Loss in HTS Bi2223 Tapes at 4.2K under DC Applied Magnetic Field[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2003, 32(9): 769-772 | |
| Authors: | Hu Lif A.Sulpice E.Mossang Li Chengshan Ji Ping Wu Yifang Feng Yong Zhang Pingxiang Zhou Lian |
| Abstract: | Experimentally determined AC loss i n Bi2223tapes at 4.2K under applied D C magnetic field is discussed.Considered are the influences on the seif-field loss of:(1)The applied DC field(2).The resistivity of the sheath materia l.(3)The critical current and the number of superconducting filaments.All o f the experiments are performed at 4.2K and at appled magnetic fields of up to 5T. |
| Keywords: | Bi2223 AC loss critical current DC magnetic field |
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