| PLD法制备BiFeO3薄膜及其性能研究 |
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| 引用本文： | 黄艳芹.PLD法制备BiFeO3薄膜及其性能研究[J].功能材料,2013,44(10):1469-1471. |
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| 作者姓名： | 黄艳芹 |
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| 作者单位： | 新乡学院化学与化工学院,河南新乡,453003 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 采用快速等离子烧结法(SPS)制得纯相BiFeO3靶材,利用脉冲激光沉积(PLD)法将其沉积在Si(100)衬底上,制得BiFeO3薄膜。通过调节各种工艺参数,在沉积温度650℃,氧压2Pa,靶基距5cm,脉冲激光频率7Hz、激光能量350mJ条件下获得了高择优取向、高结晶度的BiFeO3薄膜。在此工艺条件下,又制备了不同厚度的BiFeO3薄膜。用XRD、SEM等手段对薄膜相和形貌进行了表征。结果表明,制备的薄膜有较高的形貌质量,薄膜的铁电、铁磁性能呈现出与厚度的强相关性;其中300nm厚的薄膜质量最好。
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| 关 键 词： | 多铁性 BiFeO3 快速等离子烧结 铁电铁磁性 |
Study on preparation and property of BiFeO3 thin films by PLD |
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| HUANG Yan-qin.Study on preparation and property of BiFeO3 thin films by PLD[J].Journal of Functional Materials,2013,44(10):1469-1471. |
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| Authors: | HUANG Yan-qin |
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| Affiliation: | HUANG Yan-qin(Department of Chemistry and Chemical Engineering,Xinxiang University,Xinxiang 453003,China) |
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