| 沉积速率对ZnO薄膜生长过程和微结构影响的分子反应力场方法研究 |
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| 引用本文： | 刘永利,刘欢,祁阳.沉积速率对ZnO薄膜生长过程和微结构影响的分子反应力场方法研究[J].功能材料,2013,44(10):1418-1421,1427. |
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| 作者姓名： | 刘永利 刘欢 祁阳 |
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| 作者单位： | 东北大学理学院,辽宁沈阳,110819 |
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| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项科研基金资助项目，教育部高校基本科研经费资助项目，国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 应用基于反应力场的分子动力学方法研究了ZnO薄膜(001)表面作为衬底的薄膜沉积生长过程,初步讨论了500K时,沉积速率(1.5、2.5和3.5m/s)变化对沉积薄膜质量的影响。结果表明沉积速率约3.5m/s时,衬底结构最稳定,沉积原子结构径向分布函数曲线特征峰尖锐、明显,有序度较高;每原子层密度分析表明优化的沉积温度和沉积速率下,沉积形成的薄膜结构稳定而又致密。在预置衬底表面平坦的情况下薄膜呈现一种岛状的生长模式,近衬底区Zn—O键呈现理想的生长取向,而近表面区则两种生长取向共存,导致其生长前锋交汇处形成新的有序缺陷及氧空位。
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| 关 键 词： | 分子动力学方法 薄膜生长 ZnO 晶体缺陷 杂质及微结构 |
Reactive force field study of the effect of substrate temperature on the ZnO film growth process and microstructure |
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| LIU Yong-li,LIU Huan,QI Yang.Reactive force field study of the effect of substrate temperature on the ZnO film growth process and microstructure[J].Journal of Functional Materials,2013,44(10):1418-1421,1427. |
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| Authors: | LIU Yong-li LIU Huan QI Yang |
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| Affiliation: | (Institute of Material Physics and Chemistry,College of Science,Northeastern University, Shenyang 110819,China) |
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