| 常压辉光放电及其在薄膜表面处理中的应用 |
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| 引用本文： | 林福昌,何磊,戴玲,李劲. 常压辉光放电及其在薄膜表面处理中的应用[J]. 高电压技术, 2002, 28(Z1): 44-46 |
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| 作者姓名： | 林福昌 何磊 戴玲 李劲 |
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| 作者单位： | 华中科技大学脉冲功率研究与发展中心,武汉,430074 |
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| 摘 要： | 常压辉光放电 (APGD)是具有较高电子能量的非平衡等离子体 ,比低压辉光放电更易于实现工业化应用。比较了几种获得常压辉光放电的实验方案 ,基于对常压辉光放电等离子体基本物化特性的深入了解 ,探讨了各种等离子体气氛对于绝缘介质薄膜电气及化学特性的作用 (比如憎水性、表面位能等 ) ,并将之用于绝缘介质薄膜的表面处理中 ,对于薄膜性质的改善起到了较好的作用 ,对常压辉光放电等离子体的应用作了有益的尝试
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| 关 键 词： | 常压辉光放电 等离子体 表面处理 |
| 修稿时间： | 2002-12-15 |
Atmosphere Pressure Glow Discharge and Its Application in Film Surface Treatment |
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