|
|||||
|
|
| 在腐植酸上二氧化氮光敏还原制备亚硝酸 | |
| 引用本文： | 郑佩珠.在腐植酸上二氧化氮光敏还原制备亚硝酸[J].腐植酸,2013(3):26-30. |
| 作者姓名： | 郑佩珠 |
| 作者单位： | 1. 保罗谢勒研究所放射与环境化学实验室 瑞士 2. 保罗谢勒研究所放射与环境化学实验室 瑞士; 伯尔尼大学化学与生物化学系 伯尔尼 瑞士 3. 德国迪堡大学物理化学系 伍珀塔尔 德国 4. 环境化学应用实验室 维勒班 法国 5. 中国腐植酸工业协会 北京 100120 |
| 摘 要： | 研究结果表明,土壤和其他含有腐植酸的表面,具有一种能产生还原表面物质的有机表面光化学,而这种还原表面物质可以选择性地与二氧化氮反应。亚硝酸形成的表观速率可以解释最近观察到的白天在边界层中亚硝酸高浓度现象,亚硝酸的光分解占整个羟基自由基源的60%。我们认为这种在腐植酸上的光诱导亚硝酸产物对最低对流层的化学过程有潜在的重要影响。 |
| 关 键 词： | 亚硝酸 二氧化氮 腐植酸 还原 光化学 |
Photosensitized Reduction of Nitrogen Dioxide on Humic Acid as a Source of Nitrous Acid |
|
| Authors: | Konrad Stemmler Markus Ammann Chantal Donders Jrg Kleffmann Christian George Zheng Peizhu |
| Affiliation: | 5, translate (1 Paul Scherrer Institut, Laboratory of Radio- and Environmental Chemistry, CH-5232 Villigen, Switzerland 2 Bergische Universitǎt Wuppertal, Physikalische Chemie/FB C, D-42097 Wuppertal, Germany 3 Department of Chemistry and Biochemistry, University of Bern, CH-3012 Bern, Switzerland 4 Laboratoire d’Application de la Chimie à l’Environnement(UCBL-CNRS), F-69622 Villeurbanne, France 5 Chaia Humic Acid Industry Association, Beijing, 100120) |
| Abstract: | |
| Keywords: | nitrous acid nitrogen dioxide humic acid reduction photochemistry |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |