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| MT300干涉光刻步进机 | |
| 摘 要： | ＭＴ３００干涉光刻步进机Ｉｎｔｅｒｓｅｒｖ公司和新墨西哥大学联合开发的干涉光刻技术采用ｉ线光学系统，成为０１８μｍ特征尺寸制作的有价值的生产替代技术。刻技术瞄准３００ｍｍ圆片图形制作，并可用于平板显示器生产，可以克服传统的光学光刻技术的焦深和分辨率... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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