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| 320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器研究 | |
| 引用本文： | 赵俊,杨玉林,李艳辉,杨春章,谭英,齐航,韩福忠,邢一山,王羽,王晓璇,姬荣斌,孔金丞.320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器研究[J].红外技术,2014,36(6):439. |
| 作者姓名： | 赵俊 杨玉林 李艳辉 杨春章 谭英 齐航 韩福忠 邢一山 王羽 王晓璇 姬荣斌 孔金丞 |
| 作者单位： | 赵俊:昆明物理研究所，云南昆明 650223 杨玉林:昆明物理研究所，云南昆明 650223 李艳辉:昆明物理研究所，云南昆明 650223 杨春章:昆明物理研究所，云南昆明 650223 谭英:昆明物理研究所，云南昆明 650223 齐航:昆明物理研究所，云南昆明 650223 韩福忠:昆明物理研究所，云南昆明 650223 邢一山:昆明物理研究所，云南昆明 650223 王羽:昆明物理研究所，云南昆明 650223 王晓璇:昆明物理研究所，云南昆明 650223 姬荣斌:昆明物理研究所，云南昆明 650223 孔金丞:昆明物理研究所，云南昆明 650223 |
| 摘 要： | 报道了分子束外延锗基中波碲镉汞薄膜材料以及320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器研究的初步结果。利用分子束外延技术基于3英寸锗衬底生长的中波碲镉汞薄膜材料,平均宏观缺陷密度低于200 cm-2,平均半峰宽优于90 arcsec,平均腐蚀坑密度低于2.9×106 cm-2;采用标准的二代平面工艺制备的320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器,平均峰值探测率达到3.8×1011cm·Hz1/2W-1,平均等效噪音温差优于17.3 mK,非均匀性优于6.5%,有效像元率高于99.7%。 |
| 关 键 词： | 分子束外延 锗基碲镉汞 红外焦平面探测器 |
| 收稿时间： | 2014/1/15 |