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DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器研究
引用本文:
赵俊, 杨玉林, 李艳辉, 杨春章, 谭英, 齐航, 韩福忠, 邢一山, 王羽, 王晓璇, 姬荣斌, 孔金丞. 320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器研究[J]. 红外技术, 2014, (6): 439-442,456.
作者姓名:
赵俊
杨玉林
李艳辉
杨春章
谭英
齐航
韩福忠
邢一山
王羽
王晓璇
姬荣斌
孔金丞
作者单位:
赵俊
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
杨玉林
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
李艳辉
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
杨春章
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
谭英
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
齐航
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
韩福忠
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
邢一山
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
王羽
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
王晓璇
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
姬荣斌
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
孔金丞
:昆明物理研究所,云南昆明 650223
摘 要:
报道了分子束外延锗基中波碲镉汞薄膜材料以及320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器研究的初步结果。利用分子束外延技术基于3英寸锗衬底生长的中波碲镉汞薄膜材料,平均宏观缺陷密度低于200 cm-2,平均半峰宽优于90 arcsec,平均腐蚀坑密度低于2.9×106 cm-2;采用标准的二代平面工艺制备的320×256锗基中波碲镉汞红外焦平面探测器,平均峰值探测率达到3.8×1011 cm?Hz1/2W-1,平均等效噪音温差优于17.3 mK,非均匀性优于6.5%,有效像元率高于99.7%。
关 键 词:
分子束外延
锗基碲镉汞
红外焦平面探测器
收稿时间:
2014-01-15
点击此处可从《红外技术》浏览原始摘要信息
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