| 碳靶电流对磁控溅射GLC/Ti薄膜结构及摩擦学性能的影响* |
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| 引用本文： | 谷守旭,李迎春,邱 明,庞晓旭,范恒华.碳靶电流对磁控溅射GLC/Ti薄膜结构及摩擦学性能的影响*[J].润滑与密封,2021,46(9):32-39. |
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| 作者姓名： | 谷守旭 李迎春 邱 明 庞晓旭 范恒华 |
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| 作者单位： | 河南科技大学机电工程学院;河南科技大学机电工程学院，河南科技大学机械装备先进制造河南省协同创新中心;河南科技大学机电工程学院，河南科技大学机械装备先进制造河南省协同创新中心，河南科技大学机械装备先进制造河南省协同创新中心 |
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| 基金项目： | 国家重点研发计划项目（2018YFB2000203）；河南省高端外国专家引进计划（HNGD2020003）. |
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| 摘 要： | 为改善掺杂Ti的GLC/Ti薄膜的摩擦学性能,采用非平衡磁控溅射技术在不同C靶电流下制备了类石墨碳基薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱仪(Raman)对薄膜结构进行表征;采用纳米压痕仪测量薄膜的硬度及弹性模量;利用HSR-2M型高速往复试验机测试薄膜在干摩擦条件下的摩擦磨损性能,并用白光干涉仪观察磨痕表面形貌。结果表明:随着C靶电流的增大,薄膜的柱状生长趋势日趋明显,其致密性降低,sp~2键含量减小,石墨化程度和结合力降低,而硬度和弹性模量略增;随着C靶电流的增大,摩擦因数和磨损率均增大。因此,适当降低C靶电流可以提高磁控溅射GLC/Ti薄膜干摩擦条件下的减摩耐磨性能。
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| 关 键 词： | GLC薄膜 微观结构 摩擦学性能 靶电流 |
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